紫外光催化

紫外光催化氧化法与电导率法，哪种TOC检测技术更适合超纯水？

随着半导体工艺节点推进至3nm，超纯水TOC检测已成为良率控制的关键环节。SEMI F63-2025版标准明确要求，18MΩ·cm超纯水的TOC限值需从5ppb收紧至0.5ppb，这使得超纯水toc检测仪已成为半导体厂务管理的核心设备。

最新技术动态（2025年）：当前紫外光催化氧化正与AI水质预测系统结合，通过机器学习优化UV剂量控制算法，进一步降低能耗15%-20%。建议关注第三代氮化碳（C₃N₄）光催化材料的产业化应用进展。